ICP-MS做元素线性测试时，扣空白是很常见的，存在即合理，对于绝大部分情况来说线性扣空白是没问题的。但是，扣空白某些情况下也会造成明显的误差甚至错误。

扣空白的合理性在于:

①前处理过程，耗材和试剂本身引入了一定量的元素本底；

②来自于基体元素的质谱干扰；

③仪器本身的元素残留，可以被扣除掉。

看起来，最终肯定会让结果更好，那误差和错误从何而来呢？

要从标准加入法说起，像金属材料，有机进样，这种样品基体的基体效应于质谱干扰往往比较严重。

很多时候都会选择标准加入法，由于样品与加标样品基体保持一致，也就不存在基体效应。

但是，试剂空白和样品加标基体是不一样的，以下对这三部分内容分别阐述。

01. 基体效应的影响

元素本底的扣除，误差首先来自于基体效应。

我之前多次说过：标准加入法建议也用内标校正，就是考虑到扣空白的时候扣不准的考虑。

举例: As在酸空白试剂里的强度是100cps，海水样品溶液的溶液的强度是1000cps，加标样品的净强度是900cps吗？

显然不是，由于高盐基体抑制电离，净强度肯定大于900cps。假设用内标校正，扣空白之后的强度可能是950cps。

用合适的内标肯定比不用强，然而通过内标修正扣空白误差的作用，是难以判断的。我们只能是盲人摸象，按电离能，质量数接近这种原则来选自认为“合适”的内标。

众所周知，评估基体效应可以通过加标回收率来判断，这相当于是在分辨出斜率的差异。

但是，扣空白相当于是在变化截距，准不准就无从判断了。

尤其是做非金属元素或内标回收率偏离100%较大时。这个问题我想了两个办法：

① 通过标准物质来反向推测扣空白的合理性。

② 空白不要直接扣，再通过做标准加入法的方式把浓度算出来，然后自己扣。

方式②在质谱干扰彻底消除，元素无残留的前提下是一种可以考虑的消除误差方式。

02. 基体元素造成的质谱干扰影响

这个问题在做S，Si，P，Ca，Se，K等由基体元素产生严重的质谱干扰，又没有较为彻底的消除的时候会严重影响数据的准确度。

举例：很多人用冷焰来做Ca40，但是，在冷焰的条件下，空白只是Ar离子被控制得比较低，灵敏度还是有的，假设控制到了1000cps。

但是，做样品的时候，由于样品基体会消耗ICP的能量，火焰????更冷了，从而Ar40变成了100cps，这时候你扣空白，甚至连线性都做不出来。因为扣的空白多扣了十倍，净强度异常。

再举个例子: 王老师使用DRC氧气模式测试有机物里的P，二甲苯加了标样基体的白油之后截取显著降低。

我查了一下白油与二甲苯性质，果然差异很大。

白油的加入，导致了ICP电离的基体中NOOH47的质谱干扰背景发生了显著变化，当下条件下质谱无法彻底消除，从而导致空白看起来有问题。

由于其本质还是质谱干扰没彻底消除，我用相信ICP-MS/MS做，问题很可能会得到更方便彻底的解决。

03. 来自仪器残留的影响

这个因素最容易理解。开始仪器进样系统不正常，但是急于进样，导致残留越来越低，而仪器读数等于正常信号+冲洗下来的信号。

如果恰好在进完空白，或未加标样品前把空白给洗脱而降低下来了，那结果一定偏高。

但此时，线性看起来肯定是好的。

常见元素：容易污染的元素，记忆效应严重的元素，沉积在锥和中心管的元素。

必须提醒各位，空白高也可能溶液本来就污染了，且频率更高。这和残留说的不是一回事，注意区分。

实际测试中，以上三者叠加影响，造成一些疑难问题。

综上所述，本文所说的扣空白异常情况往往出现在:冷模式，有机进样，高盐基体，易污染，易干扰元素的测试中。